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射頻IC版圖設(shè)計(jì)

http://casecurityhq.com 2014-11-12 20:55 蘇州聯(lián)業(yè)和精密科技有限公司

射頻IC電路設(shè)計(jì)中所考慮的重點(diǎn)是電特性,而版圖設(shè)計(jì)是器件和連線的尺寸 及位置,在電路設(shè)計(jì)中經(jīng)常要求器件之間滿足某種匹配關(guān)系,如要求兩個(gè)器件匹配、兩個(gè)MOS管寬長(zhǎng)比成比例、電阻成比例及電容成比例等。例如,差分電路結(jié)構(gòu) 能夠抑制電源和襯底的共模噪盧。與單端電路結(jié)構(gòu)相比,失配的差分電路不但不能很好的抑制電源和襯底的共模噪聲,而且由于它的有源器件比單端電路多,從而引 人了更多的噪聲源,使電路性能大大降低。設(shè)計(jì)全差分電路版圖時(shí)應(yīng)采用對(duì)稱結(jié)構(gòu),以提髙電路對(duì)共模信號(hào)和噪聲的抑制能力,減小射頻IC版圖不對(duì)稱性對(duì)電路性能的影響。由此可見,電路設(shè)計(jì)中的匹配要求必須通過版圖設(shè)計(jì)和工藝實(shí)現(xiàn),在版閣設(shè)計(jì)中必須認(rèn)真考慮的兩個(gè)問題:總體布局問題和匹配設(shè)計(jì)問題。

在 射頻IC版圖布局中必須考慮器件分布方式對(duì)電路性能的影響。例如,因大尺寸器件的發(fā)熱而導(dǎo)致的芯片熱分布問題,這種熱分布將導(dǎo)致具體的器件個(gè)體的工作環(huán)境 上的差異。另一方面,布局中還必須考慮電源、地線的分布以及襯底的電接觸分布問題,不恰當(dāng)?shù)姆植紝⒁雽?duì)電源或地線的串聯(lián)寄生電阻。除此之外,布局還必須 考慮信號(hào)的傳輸關(guān)系,器件與器件,器件與單元,單元與單元之間的連接問題。

由于工藝與材料特性等方面的原因,幾何形狀和尺寸相問的器件在制作完成后并不—定完全相同,也就是說,工藝過程將引入器件的失配和誤差。射頻IC版圖的匹配設(shè)計(jì)主要是提高器件和連接線在形狀、方向、相對(duì)位置等方面的匹配程度,以減小射頻IC版圖失配帶來的誤差。

對(duì)于較大尺寸的對(duì)管,由于工藝在一維或者二維方向上的誤差,可以采用"拆分"的方法來加以減小,如圖1所示。當(dāng)沿著水平方向存在誤差時(shí),左右兩個(gè)MOS管將存在失配。因此,在射頻IC版圖布局中采用"同心布局"的結(jié)構(gòu),將每個(gè)晶體管拆成兩個(gè)MOS管,然后交叉放置。這樣M1和M2均承擔(dān)了兩個(gè)方向上的工藝誤差,使M1和M2匹配。

圖2所示照片為一個(gè)接收機(jī)射頻前端集成電路芯片。電路采用全差分結(jié)構(gòu),版圖采用上下對(duì)稱布局,地線鋪在中間,電源線走上下兩邊,中間布元件。[dt_gap height="5" /]
差分對(duì)管得拆分

圖1 差分對(duì)管得拆分[dt_gap height="5" /]
射頻前端集成電路版圖和芯片照片

圖2 射頻前端集成電路版圖和芯片照片

為了減小射頻信號(hào)的反射損耗和反射引起的失真,射頻IC芯片的射頻信號(hào)輸人與輸出端均采用共面波導(dǎo)傳輸線,其特征阻抗應(yīng)與信號(hào)源和負(fù)載相匹配。

為了確保電源中能流過足夠的電流,并減小電源和地線的封裝和鍵合帶來的寄生電感對(duì)芯片的影響,使用多個(gè)焊盤作為電源和地線。

為了減小電源耦合串?dāng)_,在電源和地線之間有意識(shí)地增加^濾波電容,以濾除電源屮的交流分貴.保證電路的穩(wěn)定工作。也就是說,對(duì)高頻信號(hào),應(yīng)盡量減少寄生電容,以提離工作頻率;對(duì)直流信號(hào),應(yīng)盡量利用寄生電容來旁路直流信號(hào)中的交流成分從而穩(wěn)定直流。

對(duì)于電路中較長(zhǎng)的走線,要考慮到電阻效應(yīng)。金屬、多晶硅分別有不同的方塊電附值,實(shí)際矩形結(jié)構(gòu)的電阻值只跟矩形的長(zhǎng)寬比有關(guān)。金屬或多晶硅連線越長(zhǎng),電阻值就越大。為防止寄生大電阻對(duì)電路性能的影響,電路中的走線應(yīng)盡量短。片內(nèi)電感應(yīng)選用在工作頻率上Q值較髙的電感。

靜 電放電(electrostatic discharge, ESD)是造成射頻IC集成電路失效的一個(gè)主要原因。隨著CMOS工藝特征尺寸的不斷縮小,晶體管對(duì)于電壓和電流的承受能力不斷降低。像0.18um CMOS工藝的柵氧層的厚度只有4nm左右,承受不了10V左右的靜態(tài)電壓。天氣干燥時(shí),人體所帶的靜電可髙達(dá)2000V,如果接觸到集成電路的引腳,放 電時(shí)產(chǎn)生的瞬間電流會(huì)燒毀電路內(nèi)部的器件。因此為了避免射頻IC與外部接口時(shí)內(nèi)部電路遭到破壞.集成電路通常都帶有ESD保護(hù)電路。

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